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低溫冷卻循環(huán)器泵

低溫恒溫槽制冷循環(huán)器低溫制冷循環(huán)器超低溫制冷循環(huán)器

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低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)

更新時(shí)間：2023-11-17

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低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)廣泛用于各種實(shí)驗(yàn)研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備：生物制藥。科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機(jī)。
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QR-25W智能低溫恒溫槽

更新時(shí)間：2023-11-17

型號(hào)：QR-25W

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智能低溫恒溫槽產(chǎn)品說(shuō)明：采用機(jī)械全封閉制冷降溫速度快，控溫精度準(zhǔn)。壓縮機(jī)高低壓，壓縮機(jī)過(guò)熱，電流負(fù)載等多重保護(hù)確保安全可靠。
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-40℃～30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應(yīng)釜配套設(shè)備

更新時(shí)間：2023-11-17

型號(hào)：-40℃～30℃

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低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應(yīng)釜配套設(shè)備，低溫制冷循環(huán)器采用全密閉設(shè)計(jì)，低溫運(yùn)行過(guò)程無(wú)吸水，保證冷導(dǎo)熱介質(zhì)的純度，防止冰晶，提供導(dǎo)熱液壽命。高性能循環(huán)泵，可保證每天連續(xù)24小時(shí)運(yùn)行。
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LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)

更新時(shí)間：2023-11-17

型號(hào)：LX-20A

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制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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LX-145低溫制冷循環(huán)器

更新時(shí)間：2023-11-17

型號(hào)：LX-145

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低溫制冷循環(huán)器使用范圍：對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時(shí)間：2024-01-18

型號(hào)：LX-0250

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低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂、谷輪等品牌壓縮機(jī)，性能穩(wěn)定，可持續(xù)工作，微電腦溫度控制器，溫度數(shù)字顯示，調(diào)節(jié)單位0.1度，溫度范圍5度~35度可調(diào)。
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制冷循環(huán)冷水機(jī)

更新時(shí)間：2023-11-17

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制冷循環(huán)冷水機(jī)使用范圍：對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻：
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LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時(shí)間：2024-01-18

型號(hào)：LX-70

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LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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